F50-UV膜厚測量儀采用的是波長范圍在190-1100nm的紫外光以及可見光干涉測量，全自動機械找點，輸出Mappinig圖，*大支持12英寸的wafer，測量膜層厚度范圍是1nm-40um，準確度高達0.4%或1nm，精度為0.07nm，廣泛應用于半導體等眾多行業。