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基于無(wú)掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(結(jié)果與討論)
2020-05-19
氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電膜具有電阻率低、透光性好、耐高溫等優(yōu)點(diǎn),在光電領(lǐng)域具有重要應(yīng)用?,F(xiàn)有加工方法得到的ITO電極尺寸一...
基于無(wú)掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(引言+實(shí)驗(yàn))
2020-05-18
氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電膜具有電阻率低、透光性好、耐高溫等優(yōu)點(diǎn),在光電領(lǐng)域具有重要應(yīng)用?,F(xiàn)有加工方法得到的ITO 電極尺寸...
EVG為扇出晶圓級(jí)封裝推出突破性的低溫激光脫膠解決方案
下一代激光解鍵合解決方案,該解決方案可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量,低成本擁有成本(CoO )室溫剝離,用于超薄和堆疊式扇出封裝。新型激光...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(shù)(封裝可靠性)
2020-05-15
FC 封裝通過(guò)芯片凸點(diǎn)將芯片和基板鍵合在一起。一方面,F(xiàn)C 封裝體具有種類繁多的材料,芯片、凸點(diǎn)和基板中不同材料之間的性...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(shù)(底填充工藝)
為了提高 FC 組件的封裝可靠性,必須進(jìn)行底填充。底填充可以有 效的緩 解芯片、基板和焊料三者之間的 CTE 不匹配,增...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(shù)(基板技術(shù))
2020-05-14
FC 技術(shù)發(fā)明并發(fā)展的過(guò)程中,陶瓷基板一直在其中扮演著重要角色。但是,陶瓷基板成本較高。為了降低成本,近年來(lái)人們致力于提...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(shù)(凸點(diǎn)工藝)
芯片凸點(diǎn)是 FC 互連中的關(guān)鍵組成部分之一,具有在芯片與基板間形成電連接、形成芯片與基板間的結(jié)構(gòu)連接以及為芯片提供散熱途...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(shù)(簡(jiǎn)介)
2020-05-13
倒裝芯片 ( Flip Chip,F(xiàn)C) 技術(shù)是一種應(yīng)用廣 泛的集成電路電子封裝技術(shù)。隨著電子產(chǎn)品不斷向小型化和多...
EVG納米壓印技術(shù)用于制作3D光學(xué)納米結(jié)構(gòu)
該聯(lián)合解決方案最初在由歐盟第七框架計(jì)劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造(SNM)”項(xiàng)目中得到證明,該聯(lián)合解決方案涉及...
中國(guó)半導(dǎo)體材料邁向中高端
2020-05-12
半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ),它融合了當(dāng)代眾多學(xué)科的先進(jìn)成果,在半導(dǎo)體制造技術(shù)不斷升級(jí)和產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新發(fā)展中扮演著重...
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